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10月20日晚,拓荆科技发布了22年前三季度的事迹预报:预计完成营业支出9.5-10亿元,同比增长154.08%-167.45%;归母净利润为2.3-2.4亿元,同比增长约3倍。
全年事迹颇有可能超越市场预期按照预报数据以及上半年的营收和利润状况,可推算22Q3公司支出为4.27-4.77亿元;单季度支出再翻新高22Q2为4.16亿元)
依照装备公司的历史支出法则来看,推销高发生在下半年,Q3、Q4的支出有递增趋向。
假如Q4的支出再创单季度新高的话,那末公司全年的营业支出将会达到14亿元,超过市场预期(统一性预期:22年支出13.51亿元,同比增长78.19%)
归母净利润为1.22-1.32亿元,也创下单季度新高。(Q2净利润为1.20亿元)
华尔街见闻·见智钻研以为:公司的事迹高增缘故预计依然与中报时分相反,PECVD销售定单量继续增长。而且装备类始终是半导体畛域中毛利率十分高的,个别在40-50%摆布,一旦造成技术劣势,将在很长一段时间内放弃较高的竞争壁垒。
薄膜堆积装备占半导体投资的第二大比重国际晶圆厂扩产带动装备需要增长。晶圆制作装备占半导体装备投资的次要比重,高达80%,这其中次要包罗刻蚀机、薄膜和光刻机。
薄膜堆积装备的投资比重比仅次于刻蚀装备,占比达25%,高于光刻装备。薄膜堆积装备所堆积的薄膜技术参数间接影响芯片机能。
因此,晶圆厂对薄膜堆积装备所需求的验证时间会相对于比一些半导体公用装备可能更长。测试装备的占比对比小,分别为10%和8%。
拓荆科技支出构成上:PECVD(等离子体加强化学气相堆积)占比达到89%;SACVD(次常压化学气相堆积)和ALD(原子层堆积)对支出的奉献对比小,分别占到5%和4%。
产品力方面:公司无疑是国际的龙头企业。在化学气相堆积装备上临时没有能够与之竞争的公司。国际出名的龙头装备公司中,不存在间接与公司主业竞争的状况。南方华创提供的是物理堆积装备(PVD)和ALD。
目前,公司的产品适配 180-14nm 的逻辑芯片、19/17nm 的 DRAM 及 FALSH 制作工艺需要,兼容 SiO2、SiN等多种反映资料。
客户集中度较高,前五大客户算计支出占比在80%以上。客户包罗中芯国内、华虹团体、长江存储、 长鑫存储等国际主流晶圆厂商。
晶圆厂扩产、薄膜堆积装备需要仍在增长外乡晶圆厂扩建的步调依旧在减速。按照地下信息显示:预计2022-2026年期间,外乡还将新增25座十二英寸晶圆厂,布局新增月产能超过160万片。预计2026年底,十二英寸晶圆厂的总月产能将超过276.3万片。
晶圆厂的扩建必将会与装备需要增长造成共振。所以,因为装备需要的不停减少,销售定单继续增长,公司营业支出将来依旧会放弃微弱的增长势态。
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