国产光刻机上线，老美封锁方案，破产！

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渤海湾围捕“大黑鱼”，日照港击落不明航行物。
不能不说，比来这两件事件，我们办得是真丑陋。
与此同时，在国人群体认识兴奋低落之际，后方还有另外一条好动静传来：上海微电子出产的首台2.5D/3D先进封装光刻机顺利交付并正式投入使用。
上海微电子以每台1800万元的价钱，卖了2台给昆山同兴达，一家专一芯片封测技术的公司 。有一说一，中国人不骗中国人，这个价钱真不贵。


固然，得多敌人会感到奇怪：封测光刻机是何物？
首先声明，封测光刻机不是用于芯片制作的装备。
按光刻机的用处来划分的话，光刻机分为前道光刻机和后道光刻机。望文生义，前道光刻机用于前端环节——制作，后道光刻机光刻机用于后端环节——封测。
后道封测光刻机，作用是在芯片别离封装过程当中，测试流程，晋升芯片后道制作良率。所以，比拟前道制作光刻机，后道封测光刻机，所需的技术含量其实不过高。
然而，这其实不象征着上海微电子出产的首台2.5D/3D先进封装光刻机十分鸡肋。


首先，当“国产”和“光刻机”这个词组合在一同时，就曾经足够大家兴奋一阵了。虽然技术含量不高，那也是在相对于的语境下，毕竟技术是用来降级冲破的。
更何况，在封测光刻机畛域中，这台2.5D/3D先进封装光刻机，未然是一切竞品中的“佼佼者”。上海微电子更是称其——“代表了行业同类产品的最高程度”。
据悉，它可以用于2.5D/3D等超大芯片的先进封装方式，也可知足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级光刻工艺需要。而且还拥有高精度、高良率的特征。
所以，这台国产封装光刻机，是上海微电子的一大步，也是自研光刻机畛域的一大步。


固然，国产后道封测光刻机的冲破当然使人心潮磅礴，然而咱们也需求正视：我国与国内先进程度之间，前道制作光刻机的差距。
按光源先过程度划分，前道制作光刻机又可以分为EUV光刻机、DUV光刻机、UV光刻机、ArF、KrF……（排名挨次由高到低）。
咱们耳熟能详的光刻机，美国重点打击的光刻机，次要恰是EUV光刻机、DUV光刻机。
EUV光刻机是以后冲破3nm、5nm、7nm芯片制作的症结。
而DUV光刻机在多重暴光下，最高极限是出产10nm芯片。
EUV光刻机、DUV光刻机，又次要被荷兰ASML、日本佳能、日本尼康垄断。对了，这三家都活在“美国技术暗影”中。
我国目前最为紧缺的就是EUV光刻机，而这些装备根本上100%都在荷兰ASML手上。


图为光刻机行业开展趋向，图片源自方正证券2020年6月研报截图
值得一提的是，在上海微电子的光刻机家族谱系中，也有制作前道光刻机。
只不外……e妹妹m……目前展现出的最早进的一款，分辨率也仅停留在90nm。
90nm和7nm之间的差异，不只在于两位数和个位数，更是中美光刻机研产生产技术的10年差距。
所以，我们当初确当务之急，就是将90nm前面坠着的零去掉，自研出国产高端前道制作光刻机。
而最有但愿给大家带来好动静的恰是这家上海微电子。毕竟，在2年前就曾有动静指向，其在短时间内落地国产自研28nmDUV光刻机十分有戏。
当初看来，上海微电子也的确在半导体内兢兢业业，勤快深耕。中国的光刻机短板能不克不及由上海微电子补齐？这，是大家独特的期盼的愿景。


打压、封锁、制裁，美国联结荷兰、日本，对中国高端芯片的研产生产布下网罗密布。因此，芯片问题始终是一块压在国人心头的巨石。这扼住命运后脖颈的味道，真欠好受。
而想要化解我国以后所面临的芯片缺口之难，最症结的一步是？——国产自研光刻机。
此前，美国只是限度荷兰ASML向我国出口高端EUV光刻机。
然后，美国步步紧逼，连DUV光刻机恐惨遭出口禁令影响。
没有光刻机，关于我国的芯片制作业，象征着甚么？
黑马用一句话来描述的话——“巧妇难为无米之炊”。


没有光刻机，连中芯国内最新芯片技术——14nm芯片量产工艺制程，也会颇受影响。毕竟中芯国内要想完成14nm芯片量产，靠的仍是ASML的DUV光刻机。
所以，国产自研光刻机的研发量产十分紧急，那是箭在弦上，不能不发。芯片去丑化，必需得从源头抓起，也就是从光刻机上完成逾越性冲破，追平美国科技。
总而言之，国产封测光刻机再上一层楼，这个振奋人心的动静不只在于其自身转达的字面信息，更在于其证实了：只有下工夫，中国自研光刻机仍是能有将来。
新技术的迭代，成了中国光刻机畛域，在久违的暗夜中一抹亮光。
中美这一场博弈，一步一步地走来，看来当前还会有更多国产惊喜。